產(chǎn)品中心
Product Center
熱門搜索：
Element美國(guó)EDAX能譜儀
EP6美國(guó) Cascade Microtech EP6探針臺(tái)
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀
主動(dòng)隔振臺(tái)ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
P170全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀
P7晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
納米團(tuán)簇束流沉積系統(tǒng)
Profilm 3D經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀 可測(cè)樣
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性價(jià)比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠
當(dāng)前位置：首頁
產(chǎn)品中心光刻機(jī)
article
相關(guān)文章
緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng) 重新定義無掩模光刻技術(shù) LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng)利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實(shí)現(xiàn)無掩模圖案化。設(shè)計(jì)簡(jiǎn)潔，精準(zhǔn)它將微加工技術(shù)從潔凈室和任何研究或教育空間中帶出來。
更新時(shí)間：2025-10-11
產(chǎn)品型號(hào)：LITHO MASKLESS
瀏覽量：400
全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī) VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動(dòng)光路重構(gòu)、動(dòng)態(tài)鎖相、高精度步進(jìn)重復(fù)曝光等強(qiáng)大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動(dòng)設(shè)置或調(diào)整，我們的自動(dòng)化系統(tǒng)可以在2 cm×2 cm的曝光區(qū)域內(nèi) （曝光區(qū)域還可定制其他尺寸及形狀）實(shí)現(xiàn)納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結(jié)構(gòu)的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區(qū)間范圍，
更新時(shí)間：2025-09-26產(chǎn)品型號(hào)：瀏覽量：2672
VIL1000激光干涉光刻機(jī) VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機(jī)）具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動(dòng)圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強(qiáng)大功能。該系統(tǒng)可以通過使用標(biāo)準(zhǔn)2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場(chǎng)進(jìn)行重復(fù)曝光，在8英寸大面積上產(chǎn)生各種納米結(jié)構(gòu)，例如1D光柵線和2D柱/孔圖案，周期從240 nm到1500 nm。
更新時(shí)間：2025-09-19產(chǎn)品型號(hào)：瀏覽量：2357